Будь умным!


У вас вопросы?
У нас ответы:) SamZan.net

Введение. Оксид кремния IV диоксид кремния кремнезём SiO2 бесцветные кристаллы tпл 1713 1728 C обладают высо

Работа добавлена на сайт samzan.net: 2016-03-13

Поможем написать учебную работу

Если у вас возникли сложности с курсовой, контрольной, дипломной, рефератом, отчетом по практике, научно-исследовательской и любой другой работой - мы готовы помочь.

Предоплата всего

от 25%

Подписываем

договор

Выберите тип работы:

Скидка 25% при заказе до 10.5.2024

Введение.

Оксид кремния (IV) (диоксид кремния, кремнезём SiO2) — бесцветные кристаллы, tпл 1713—1728 °C, обладают высокой твёрдостью и прочностью.

Свойства:

  •  Относится к группе кислотных оксидов.
  •  При нагревании взаимодействует с основными оксидами и щелочами.
  •  Растворяется в плавиковой кислоте.
  •  SiO2 относится к группе стеклообразующих оксидов, то есть склонен к образованию переохлажденного расплава — стекла.
  •  Один из лучших диэлектриков (электрический ток не проводит, если не имеет примесей и не нагревается).
  •  Имеет атомную кристаллическую решетку

Полиморфизм.

Диоксид кремния имеет несколько полиморфных модификаций.

Самая распространенная из них на поверхности земли — β-кварц — кристаллизуется в тригональной сингонии

При нормальных условиях диоксид кремния чаще всего находится в полиморфной модификации β-кварца, которая при температуре выше 573 °C обратимо переходит в α-кварц. При дальнейшем повышении температуры кварц переходит в тридимит и кристобалит. Эти полиморфные модификации устойчивы при высоких температурах и низких давлениях. При высоких температуре и давлении диоксид кремния сначала превращается в коэсит, а затем в стишовит. Согласно некоторым исследованиям стишовит слагает значительную часть мантии, так что вопрос о том какая разновидность SiO2 наиболее распространена на Земле, пока не имеет однозначного ответа.

Также имеет аморфную модификацию — кварцевое стекло.

Получение.

Синтетический диоксид кремния получают нагреванием кремния до температуры 400—500 °C в атмосфере кислорода, при этом кремний окисляется до диоксида SiO2. А также термическим оксидированием при больших температурах.

В лабораторных условиях синтетический диоксид кремния может быть получен действием кислот, даже слабой уксусной, на растворимые силикаты. Например:

кремниевая кислота сразу распадается на воду и SiO2, выпадающий в осадок.

Натуральный диоксид кремния в виде песка используется там, где не требуется высокая чистота материала.

Применение.

Диоксид кремния применяют в производстве стекла, керамики, абразивов, бетонных изделий, для получения кремния, как наполнитель в производстве резин, при производстве кремнезёмистых огнеупоров, в хроматографии и др. Кристаллы кварца обладают пьезоэлектрическими свойствами и поэтому используются в радиотехнике, ультразвуковых установках, в зажигалках.

Диоксид кремния — главный компонент почти всех земных горных пород, в частности, кизельгура. Из кремнезёма и силикатов состоит 87 % массы литосферы.

Аморфный непористый диоксид кремния применяется в пищевой промышленности в качестве вспомогательного вещества E551, препятствующего слёживанию и комкованию, парафармацевтике (зубные пасты), в фармацевтической промышленности в качестве вспомогательного вещества (внесён в большинство Фармакопей), а также пищевой добавки или лекарственного препарата в качестве энтеросорбента.

Искусственно полученные плёнки диоксида кремния используются в качестве изолятора при производстве микросхем и других электронных компонентов.

Также используется для производства волоконно-оптических кабелей. Используется чистый плавленый диоксид кремния с добавкой в него некоторых специальных ингредиентов.

Кремнезёмная нить также используется в нагревательных элементах электронных сигарет, так как хорошо впитывает жидкость и не разрушается под нагревом спирали.

/// Здесь будет допереведенный текст статьи.

Оксид кремния играет важную роль во многих областях, в частности в электронике, оптических коммуникациях, и тонкопленочных технологиях. Очень желательно чтобы структуры атомных масштабов различных кремниевых полиморфов лучше изучались и понимались. Изучение малых оксидных кластеров кремния (SinOm с разными n и m) должно предоставлять полезную информацию


Методы расчёта и параметры.

Теория функционала электронной плотности.

Резкий рост вычислительных трудозатрат при использовании метода Хартри-Фока для расчета многоатомных систем заставил физиков искать более эффективные подходы. В 1964 году Хоэнберг и Кон показали, что энергия основного состояния системы, состоящей из N электронов, находящихся во внешнем поле с потенциалом v(r), является функционалом неоднородной концентрации электронов nе(r). Этот функционал может быть представлен в виде

,

где G[ne] - универсальный функционал от ne(r), e - элементарный положительный заряд.

Универсальность функционала G[ne] означает отсутствие в нем явной зависимости от внешнего поля v(r). Условие минимума функционала E[ne] при фиксированном числе электронов  в системе представляет собой уравнение Эйлера-Лагранжа

.

Здесь μе - множитель Лагранжа, совпадающий с химическим потенциалом электронов при Ne » 1. Электростатический потенциал j(r) системы определяется уравнением Пуассона

где ni(r) - концентрация ионов, создающих потенциал v(r).

Для квазиоднородной системы электронную плотность можно представить в виде

,

где  - концентрация однородного электронного газа, .

Тогда G можно разложить по малому параметру :

.

Первое слагаемое соответствует однородному электронному газу. Разложение G не может содержать нечетных степеней пе(r) вследствие нормировки и инвариантности невозмущенной системы по отношению к переносу и вращению. Фурье-образ от К0 может быть точно выражен через диэлектрическую проницаемость ε(k) однородного электронного газа

.

G[ne(r)] представляет собой сумму кинетической и обменно-корреляционной энергий квазиоднородного электронного газа концентрации nе(r). В приближении локальной плотности (LDA)

,

где  - объемная плотность энергии, и - энергия на один электрон, состоящая из кинетической, обменной и корреляционной энергии:

;

,

kF - фермиевское волновое число.

Корреляционный вклад в рамках LDA определен следующим образом.

Обозначим . Тогда для  корреляционная энергия на один электрон равна , а корреляционный потенциал равен

.

При  корреляционная энергия равна  и корреляционный потенциал

.

Здесь A = 0.0311, B = -0.048, C = 0.002, D = -0.0116, γ = -0.1423, β1 = 1.0529, β2 = 0.3334 (в атомных единицах).

Хоэнберг и Кон рассмотрели также систему, плотность которой мало меняется на расстояниях порядка . Квазиоднородное приближение справедливо, если соблюдаются неравенства

,

в котором все коэффициенты gm являются функциями nе(r). Их можно найти из условия одновременного выполнения плавности и малости вариаций плотности nе(r).

В приближении хаотических фаз

.

Остальные выписанные градиентные слагаемые равны:

Решение многоэлектронной задачи в рамках теории функционала плотности сводится к минимизации хартри-фоковской энергии. Из условия минимума энергии получаем уравнение

,

где  - обменно-корреляционный потенциал; Еxc = Еех + Ecor, Ts - кинетическая энергия невзаимодействующего электронного газа. С учетом уравнений Пуассона получаем систему одночастичных уравнений

,

где .

Основные трудности связаны с выбором G[ne]. Часто ограничиваются приближением локальной плотности (LDA), которое иногда дает даже более корректные результаты, чем градиентное приближение (GGA). В каждом конкретном случае следует принимать индивидуальное решение, каким приближением пользоваться.

Существует большое число программных реализаций подхода к моделированию, основанного на теории функционала плотности. В основном, используются результаты, полученные с использованием пакетов, разработанных группой Матиаса Шеффлера (Институт Фрица Хабера, Берлин): FHI96md, FHI96spin и FHI98md.

Метод псевдопотенциала

Дальнейший путь к ускорению расчетов и к увеличению размеров моделируемых объектов без потери достоверности результатов – использование неэмпирических псевдопотенциалов. Ключевыми чертами этого похода являются:

(1) расчет только валентных состояний. Остовные состояния рассматриваются как инертные и исключаются из прямого рассмотрения. Это означает, что химические и физические процессы определяются в основном валентными состояниями, а остовные дают в них непрямой вклад – через псевдопотенциал.

(2) Валентные электроны находятся в псевдопотенциале, который более гладок, чем истинный потенциал вблизи ядра, но совпадает с истинным потенциалом снаружи. Этот псевдопотенциал действует на гладкие псевдоволновые функции, которые за пределами остовной области эквивалентны истинным волновым функциям, но не имеют радиальных узлов, которые делают истинные валентные и остовные орбитали ортогональными. Это позволяет использовать малые базисные наборы плоских волн и производить численное решение уравнений Шредингера и Пуассона для сложных систем.

(3) Нормосохраняющее условие гарантирует, что за пределами остова псевдоволновые функции ведут себя подобно истинным волновым функциям в широком диапазоне различных химических ситуаций.

Применяемые вместе с теорией функционала плотности, нормосохраняющие псевдопотенциалы дают возможность проводить вычисления полной энергии сложных многоатомных систем для многих элементов периодической таблицы.

Существует множество способов конструирования псевдопотенциалов. Например с использованием псевдопотенциалов, построенных с использованием пакета FHI98PP, разработанного группой Матиаса Шеффлера. Этот пакет представляет собой инструмент для генерирования нормосохраняющих псевдопотенциалов. Обмен и корреляция рассматриваются как в приближении локальной плотности, так и в приближении обобщенных градиентов. Псевдопотенциалы, конструируемые этим пакетом, совместимы с многими вычислительными программами.


 а) (D2h)

  б) (C2v)

Рис. 1 Оптимизированная геометрия (SiO2)4 (а, б).

Для расчета кремниевых структур лучше всего подходит градиентное приближение, GGA, на которое опираются в статье [1]. При таком выборе псевдопотенциала результат будет давать наиболее точное согласование с экспериментально полученными данными.

Для расчета применялся подход суперячейки, размер которой выбирается так что на систему не влияют частицы находящиеся при трансляции в узлах решетки. Для расчета состояния была выбрана орторомбическая ячейка (ibrav = 8) размером (16 х 18,5 х 22, позднее размер ячейки был увеличен для отсекания влияния соседних частиц). Межатомные длины связей Si-O ~ 1.54A, O-Si-O ~ 1.66A, энергия обрезания базиса плоских волн Ecut = 20Ry (позднее 40 Ry для более точного расчета).

Входные данные

Результаты

  1.  Кластер Si4O8(a), длина связи Si-O = 1.54A, O-Si-O = 1.66A,

    HOMO-LUMO gap = 3.74 eV.

Рис. 2 Плотность электронных состояний (Si4O8)(а)

  1.  Кластер Si4O2(б), длина связи Si-O = 1.54A, O-Si-O = 1.66A,

HOMO-LUMO gap = 4,16 eV.

Рис.3 Плотность электронных состояний (Si4O8)(б)


HOMO
LUMO gap – это акронимное сокращение от расстояние между Высшей Занятой Молекулярной Орбиталью – Низшей Незанятой Молекулярной Орбиталью (Highest Occupied Molecular Orbital and Lowest Unoccupied Molecular Orbital). Конкретно разница в энергии между между HOMO и LUMO  называется HOMOLUMO gap.

Грубо говоря, уровень HOMO для органических полупроводников это то же самое что и максимум валентной зоны для обычных полупроводников. Ту же аналогию можно провести между уровнем LUMO и минимумом зоны проводимости.

Собственно зная величину этого зазора можно определить, какими электронными качествами, в частности проводимостью, будет обладать элемент.

По результатам вычислений:

  1.  Для (a) уровень HOMO = -7.885840 eV, уровень LUMO = -4.141434 eV, разница между ними составляет 3.74 eV.
  2.  Для (б) уровень HOMO = -7.826601 eV, уровень LUMO = -3.665154 eV, разница между ними составляет 4,16 eV.

На основании вышеизложенного можно сделать очевидный вывод, диоксид кремния является изолятором, так как ширина его запрещенной зоны является очень высокой.

Так же была рассчитана энергия кластеров:

  1.  Для (а) ее величина оказалась равной -141.4496423 Hartree.
  2.  Для (б) ее величина оказалась равной -141.4763890 Hartree.

Разница в этих величинах, переведенная в электрон-вольты составляет 0,72 eV (E(б) > E(a)).

Заключение

В ходе работы были просчитаны два варианта геометрии кластера Si4O8.

По итогам работы можно сделать вывод, что для данного кластера энергетически более выгодной является конфигурация (а), и разница между энергиями высчитанных кластеров составляет 0,72 eV (E(б) > E(a)), что несколько больше чем в статье [1] на которую я опирался при выполнении данной работы, но разница не столь значительна. Интересным оказался факт, что это значение совпадает с одним из значений приведенных в статье, когда сравниваются кластеры со схожими структурами, кольцевой и вытянутой в пространстве, и также являющимися изомерами диоксида кремния, но другого вида (SiO2)3. К сожалению, практического применения этот факт не находит.

Список литературы:

  1.  В.Г. Заводинский. Компьютерное моделирование наночастиц и наносистем.  – М.: ФИЗМАТЛИТ, 2013. – 176 с.
  2.  J. Phys. Chem. B 2001, 105, 1705 – 1709 “Geometric and Electronic Structures of Silicon Oxide Clusters”.




1. і. Яке захворювання найбільш імовірне Поліомієліт B Енцефаліт C Псевдотуберкульоз D Правець E
2. Депозитные деньги
3. ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА 5
4. Историческая география.html
5. Вятский край мое будущее
6. варианты отличаются цветом деталями
7. МариТута болезнь Наследственная моторная и сенсорная невропатия ChrcotMrieTooth Disese Hereditry Motor nd Sensory Neuropthies; HMSNs
8. поведение людей которое в полной мере согласуется со всеми требованиями норм права
9. тематической логики
10. Социальное партнерство во имя развития краевой этап IV конкурса молодежных проектов Красноярский
11. глубинная психология есть общее обозначение ряда психологических направлений выдвигающих среди про
12. Национальный вопрос в современном мире
13. Реферат Сущность государства
14. Малое предпринимательство в экономике России
15. Можна вважати що інформатика виникла одночасно з першими спробами механізувати й автоматизувати розумову
16. Тема ’ 2.2. Лекція ’ 4.html
17. Нормативы потребления этилового спирта для учреждений здравоохранения образования и социального обеспеч
18. РЕФЕРАТ дисертації на здобуття наукового ступеня доктора юридичних наук Одеса ~ Дисер
19. Олимпийские игры и раннее христианство
20. тов и основания. Обеспечение надежности зданий и сооружений зачастую требует укрепление их основания и у